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      希尔材料-优良清洗效果,用量少,无腐蚀,天然环保

      热门关键词: 防锈清洗剂 多功能清洗剂 金属表面油污清洗剂 工业清洗剂

      • 硅晶片线切割后清洗剂
      硅晶片线切割后清洗剂

      希尔硅晶片线切割后清洗剂由多种进口表面活性、缓蚀剂及其它助剂配制而成的水基清洗剂,针对硅晶片切割后抛光后残留的硅粉、残胶,氧化物和油污特别研制。清洗后晶片表面无白班,花斑、腐蚀等不良,适用于各种半导体硅片与硅晶片切割后清洗。

      应用领域:主要用于太阳能电池硅晶片切割加工后的清洗,以及半导体芯片、晶圆切割后的清洗。

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      产品特点Product characteristics

      硅晶片线切割后清洗剂应用

      √ 专用于硅晶片材质,洁净度高

      √ 清洗后表面无花斑,无白斑

      √ 清洗效果好,无残留,不影响导电性能

      √ 原液浓度高,槽液寿命长,可循环使用

      √ 水基安全,低泡型,易漂洗,无残留

      √ 符合voc指标要求和欧盟RoHS认证

      专用硅晶片清洗  无花斑白斑  易漂洗  环保无味不伤手

      理化指标Physical and chemical indicators

      外观 无色至微黄色液体 密度 1.00-1.10g/L
      pH 10.0-11.5(工作液) 安全 不可燃,无腐蚀
      环保 无磷,不含卤素,符合欧盟RoHS要求

      工艺流程Process flow

      工艺流程

      注意事项Precautions for use

      • 使用方式

        恒温清洗/超声波清洗/平面线清洗

      • 使用方法

        按比例稀释成工作液后,加热至40-60度,超声波清洗4-6分钟。对于重污垢工件,延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。

      • 工作液维护

        1、定期检查槽液温度、液位,及时补水及相应比例补加原液。

        2、按规定时间定期更换槽液。

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      希尔光学玻璃清洗剂是一种水基环保清洗剂,对于玻璃蚀刻、CNC、精雕、强化、钢化、丝印、研磨、抛光、镀膜前后等均可清洗,主要是洗玻璃上的切削液、硝酸钾、抛光粉/液、油墨、沥青、水垢、水印、灰尘、白点、霉点、指纹等各种脏污,以及平磨后的研磨粉与玻璃粉等,清洗良率达99%以上,洁净度高,不发蒙。应用领域:适用各种光学玻璃、光学零部件、石英玻璃、微晶玻璃、发电玻璃、导电玻璃、lcd与led、玻璃盖板、蓝宝石、镜片等。
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