抛光液（CMP）是近年来处于前端的研磨抛光方式，大致有二氧化硅抛光液，氧化铈抛光液，氧化铝抛光液等等常见材料，当金属材料抛光至镜面效果时，抛光液在物理和化学同时作用下，在基材上面形成顽固的固体残留物，尤其是使用纳米二氧化硅（硅溶胶）抛光过的铝合金高光镜面，在抛光液干涸在基材表面，已经是业界头等清洗难题。选择一款合适的抛光液清洗剂，用水性分散原理，快速解决行业抛光液残留的棘手问题。

目前，很多研磨抛光加工企业，使用一些不佳的清洗剂，要不是清洗不了抛光液残留物，要不就是能清洗干净，但金属（铝合金）高光镜面效果被破坏，在没有更合适的办法下，停留在手工清洗高光镜面加工件，效率低下，对员工身体，环境都不利，无法实现现代化生产要求。

抛光液清洗剂主要是针对各种切削液、研磨粉(液)、抛光粉/液(SiO2、氧化铈、氧化铝)清洗，对顽固霉点、脏污、手指印等有很强的清洗效果，对于金属和陶瓷研磨、抛光后的清洗效果均为优异，也适用于玻璃材质研磨与抛光后的表面清洗，通过自动化超声波设备清洗后，在不腐蚀材料的基础上，高效率的批量化清洗镜面材料上的残留抛光液。

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